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光电光学水处理解决方案

2013-08-14

1. 光电光学水处理设备应用范围:

可适用光电制品,如:LCD,LED,触摸屏等,

     光学制品:如光学镜头、光学镜片等系列产品

     太阳能电池,单晶硅、多晶硅生产用水

     

2. 用水水质要求:

此类光电光学产品对水质要求十分高,出水水质一般需要达到下述要求:

电阻率:产水点>15兆欧以上。

SiQ2: <10ppb

TOC: <50ppb

PH:6.5-8

硬度:<6dh

金属阳离子:<1ppb

纯水等级满足EW-2(GB/T11446.1-1997)



3. 用水量:

小型生产线如:一条长10左右的清洗线一般一天用水10T左右。

大型生产线:一条50米的清洗线一般一天用水50T左右


4. 设备要求:

根据用水水质要求,光电光学水处理设备主要选用反渗透+混床+核能级混床工艺或采用双级反渗透+EDI+核能级混床工艺,两种超纯水设备均能达到出水水质在15兆欧以上。



5. 设备一般流程:

光电光学超纯水设备一般采用下述流程:

原水箱—原水泵—砂滤器—碳滤器—软水器—精密过滤--反渗透—纯水箱—混床提升泵—混—超纯水设备—核能级混床--用水点

或采用另一种设备配置:

原水箱—原水泵—砂滤器—碳滤器—软水器—精密过滤--反渗透(或双级反渗透)—纯水箱—EDI提升泵—EDI系统—超纯水箱—核能级混床—用水点


6. 两种设备优缺点:

1) 反渗透+混床

a. 购机成本较低,维护成本高

b. 当水质不达标时需要对混床用工业盐酸与片碱溶液进行再生处理。再生过后的酸碱水需要再次的处理,且不环保

c. 可以全自动运行

d.


7. 各部件作用:

光电光学水处理设备主要由预处理、主机部分提纯部分构成,各部件用用如下:

预处理:原水箱、原水泵、砂滤器、碳滤器、软水器构成了超纯水设备的预处理部分,预处理主要去除水中的泥砂、有机物、悬浮物、余氯并降低水的硬度。确保进水符合反渗透系统的要求。

预处理中砂滤器中对砂的要求较高。需要严格按照砂的大小进行装配,特别注意的是最表层的砂需在装配0.5左右的细砂,调试在10公分左右。

主要机部分主要由精密过滤与反渗透组成,此部分的主要作用是将自来水处理成小于10us以下的纯水。反渗透需要选用好的膜元件,最好的反渗透元件可选用美国陶氏膜元件,可以确保反渗透的使用。初期出水水质可以达到5us以下。

提纯部分选用混床系统,将反渗透出水水质在5us以下的水质提纯到15兆欧以上,再通过核能级混床水质可长期稳定。


8. 光电光学水处理设备的操作使用说明:

主要保养事项:每周对砂滤器、碳滤器进行正反洗,每两周对软水器进行吸盐,

每两周对滤芯进行更换。

每年对砂滤器、碳滤器进行耗材更换,同时对RO进行化学清洗。

软水树脂每两年进行更换,RO膜每三年进行更换


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